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上海大学客户

宣布时候:2020-04-16  阅读次数:1065

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该产物是由固态等离子源、气体质子流量节制体系、衬底控温体系、真空体系构成,接纳集合总线节制手艺的诺巴迪操纵软件。合用于室温至1200℃前提下停止SiO2、SiNx薄膜的堆积,同时可完成TEOS源堆积SiC膜层堆积和液态气态源堆积别的资料,特别合适于无机资料上高效掩护层膜和特定温度下无毁伤钝化膜的堆积。


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